| 사용/활용예 |
- 반도체 CMP 슬러리 입자 크기 및 입도분포 평가- 나노입자 분산액의 제타전위 측정- 나노입자 분산 안정성 및 응집 거동 평가- 포토레지스트 및 감광재용 나노소재 입도 분석- 이차전지 전극 슬러리 및 전해질 첨가 나노소재의 입자 특성 분석- 콜로이달 실리카, 산화티타늄, 세라믹 등 무기 나노분말의 입도 측정- 합성 조건(농도, pH, 염 농도, 온도)에 따른 입자 크기 변화 평가- 분산제 및 계면활성제 종류와 첨가량에 따른 분산 특성 평가- 고분자 및 나노소재의 분자량 측정- 소재 제조 공정 전후 입도 균일성 비교 분석- 기업 의뢰 시료의 입도 및 제타전위 시험·분석 |
| 장비설명 |
본 장비는 반도체 EUV(극자외선) 장비 및 인프라 구축 과제의 일환으로, EUV 공정에 사용되는 소재의 입자 특성을 평가하기 위해 구축한 장비이다. EUV 리소그래피 공정에서는 포토레지스트, 감광재, 공정용 케미칼 등 액상 소재의 입자 크기와 분산 상태가 패턴 품질과 결함 발생에 직접 영향을 미치므로, 이들 소재의 입자 특성을 정량적으로 평가하는 것이 중요하다.본 장비는 동적광산란(DLS) 방식으로 EUV 관련 소재 내 나노입자의 크기와 입도분포를 측정하고, 전기영동광산란(ELS) 방식으로 제타전위를 측정하여 소재의 분산 안정성과 응집 여부를 평가하는 기능을 수행한다. 또한 소재 개발 및 공정 조건 변화에 따른 입자 특성 변화를 분석함으로써, EUV 소재 기업의 개발 단계 검증과 품질 확인을 지원한다.이를 통해 EUV 장비 및 인프라와 연계하여 포토레지스트, 감광재, 공정용 케미칼 등 EUV 관련 소재의 평가 기반을 갖추고, 지역 기업의 EUV 소재 개발과 품질 향상, 기업 의뢰 시험·분석의 신뢰성을 높이는 역할을 한다. |
| 구성 및 기능 |
■ 장비명 : Nano Particle Size Analyzer (나노입도분석기)■ 모델명 : Zetasizer NANO (제조사: Malvern Instruments)■ 본체 구성 : 광학 유닛(레이저, 검출기, 감쇠기), 시료 챔버, 온도 제어부■ 측정 원리 : 입도 - 동적광산란(DLS) / 제타전위 - 전기영동광산란(ELS, M3-PALS) / 분자량 - 정적광산란(SLS)■ 광원 : He-Ne 레이저, 633 nm, 4 mW■ 검출기 : 애벌랜치 포토다이오드(APD), 후방산란 173°■ 입도 측정 범위 : 0.3 nm ~ 10 μm■ 제타전위 측정 가능 입경 : 3.8 nm ~ 100 μm■ 분자량 측정 범위 : 약 980 Da ~ 20 MDa■ 최소 시료량 : 입도 12 μL, 제타전위 약 150 μL■ 온도 제어 : 펠티어 방식, 0 ~ 90 ℃■ 정확도 및 재현성 : NIST 추적 표준 라텍스 입자 기준 ±2 % 이내■ 부속품 : 입도 측정용 큐벳, 제타전위 측정용 셀, 표준시료■ 운용 소프트웨어 : Zetasizer Software (Malvern Panalytical)■ 제어 PC : 장비 제어 및 데이터 분석용 PC |
